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本发明涉及Cu－Ga合金以及Cu－Ga合金溅射靶，所述Cu－Ga合金含有质量百分比25～30%的Ga，且余量为Cu，所述Cu－Ga合金的特征在于，通过电子显微镜得到的组织图像上所呈现出的、Ga浓度为质量百分比30～35%的相即γ相的平均等效...
该专利属于三井金属矿业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三井金属矿业株式会社授权不得商用。

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