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功率MOSFET、IGBT和功率二极管制造技术
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文档序号:8388005
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通过深沟槽填充方式生产的超结MOSFET要求无缝填充外延生长。这可要求深沟槽的平面取向沿指定的方向对齐。具体而言,当芯片角部分的柱布图关于芯片角之间的对角线双侧不对称时,由于芯片角处的柱不对称,阻塞状态下的等势线在角部分弯曲。这往往导致等势...
该专利属于瑞萨电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过瑞萨电子株式会社授权不得商用。
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