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高压器件的外延层制造方法技术
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文档序号:8387800
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本发明提供了一种高压器件的外延层制造方法,包括:提供衬底;在衬底上形成外延层,外延层具有第一厚度;平坦化外延层;在外延层上形成牺牲层;去除牺牲层,留下的外延层具有第二厚度,第一厚度大于第二厚度。依照本发明的高压器件的外延层制造方法,能有效改...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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