温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了用于光刻设备的支撑台、光刻设备以及器件制造方法。所述支撑台包括：支撑部分和调节系统，其中支撑部分、调节系统或两者配置成使得由于调节系统的操作导致的至衬底或来自衬底的热传递在邻近衬底边缘的衬底区域中比在衬底中心处的衬底区域中的大。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。