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本发明涉及一种接近式曝光装置及曝光方法，其能以简单结构对掩模挠曲进行修正并保持掩模，以高精度进行曝光复制。该掩模载置台（1）具有：将掩模（M）真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架（26）；保持于掩模保持架（26）上表面侧的玻璃盖片（32）；...
该专利属于恩斯克科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过恩斯克科技有限公司授权不得商用。

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