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本发明公开了位置测量系统、光刻设备和器件制造方法。所述位置测量系统包括：第一部分和第二部分，用于通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一构件相对于第二构件的位置；和计算单元，包括用于接收所述位置信号的输入端子。所述计算单...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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