位置测量系统、光刻设备以及器件制造方法技术方案

本发明专利技术公开了位置测量系统、光刻设备和器件制造方法。所述位置测量系统包括：第一部分和第二部分，用于通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一构件相对于第二构件的位置；和计算单元，包括用于接收所述位置信号的输入端子。所述计算单元配置成在使用时对位置信号应用转换以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号，和对所述转换应用调整以至少部分地补偿第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的漂移。所述调整是分别基于第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的预定的漂移特性。所述预定的漂移特性包括第一部分和/或第二部分的一个或多个基础形状。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及位置测量系统、光刻设备和器件制造方法。
技术介绍
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个 目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。在大多数情况，曝光目标部分的过程被重复多次，由此形成包括多个层的器件。为了器件的正确操作，多个层相对于彼此的精确定位是必需的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种位置测量系统，包括：第一部分和第二部分，所述第一部分和第二部分配置成通过提供表示第一部分相对于第二部分的位置的位置信号来确定第一构件相对于第二构件的位置；和计算单元，包括配置成接收所述位置信号的输入端子，所述计算单元配置成在使用时对位置信号应用转换以获得表示第一构件相对于第二构件的位置的信号，以及配置成对所述转换应用调整以至少部分地补偿第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的漂移，其中所述调整是分别基于第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的预定的漂移特性，和其中所述预定的漂移特性包括第一部分或第二部分或第一部分和第二部分两者的一个或多个基础形状。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：W·H·G·A·考恩，E·J·M·尤森，E·A·F·范德帕斯奇，R·E·范莱文，A·H·考沃埃特斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：