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本发明提供一种阀体，能够在清洗阀体时无需实质上停止基板处理系统。基板处理系统10包括对基板S实施干蚀刻处理的处理室13和输送基板S的传递室11，开放或关闭连通处理室13和传递室11的连通口19a的阀体22包括可移动的主体23和罩部件24，罩...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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