阀体、闸阀和基板处理系统技术方案

本发明专利技术提供一种阀体，能够在清洗阀体时无需实质上停止基板处理系统。基板处理系统10包括对基板S实施干蚀刻处理的处理室13和输送基板S的传递室11，开放或关闭连通处理室13和传递室11的连通口19a的阀体22包括可移动的主体23和罩部件24，罩部件24能够从主体23拆下，由在阀体22关闭连通口19a时隔着连通口19a与处理室13相对的相对部件40构成，在阀体22关闭连通口19a时，通过连通口19a从处理室13侧观察阀体22，在连通口19a内能够视认相对部件40整体。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及隔开两个腔室的阀体、闸阀和基板处理系统。
技术介绍
在基板处理系统中，包括内置有输送基板的臂的传递室、和配置在该传递室周围的多个处理室，在各处理室对基板实施规定的处理，例如等离子体处理。在传递室和处理室之间配置有隔开这些腔室的闸阀。图9是示意地表示现有闸阀的结构的截面图。在图9中，闸阀90配置在传递室和处理室之间，包括在两侧面设有开口 91a、91b 的阀箱92和配置在阀箱92的内部并通过杆(阀棒)94与致动器93连接的阀体95。该闸阀90，在隔开传递室和处理室时，通过致动器93和杆94使阀体95紧贴阀箱92的内壁面堵塞开口 91a，在连通传递室和处理室时，通过致动器93和杆94使阀体95从阀箱92的内壁面离开并被拉升到上方。在隔开传递室和处理室时，阀体95隔着开口 91a与处理室的内部相对，因此，在处理室中对基板实施会产生沉积物(7*° )的处理(以下称为“沉积物性处理”)时，有时会在阀体95的表面也附着沉积物。在闸阀90中，为了易于进行附着在阀体95表面的沉积物的除去作业，能够通过开放构成阀箱92下部的自由开闭的阀盖凸缘96而容易地拆下阀体95 (例如，参照专利文献I)。并通过喷流等对取出的阀体95的表面进行清洗。在先技术文献专利文献专利文献I :日本特开平11-108243号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，在图9的闸阀中，为了清洗阀体95需要开放阀盖法兰96，因此，传递室的内部通过开口 91b与外部连通，在传递室的内部不能输送基板，结果，存在基板处理系统实质上停止的问题。本专利技术的目的在于，提供在清洗阀体时无需使基板处理系统实质上停止的阀体、闸阀和基板处理系统。用于解决问题的方法为了达到上述目的，本专利技术技术方案I记载的阀体，其在包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室的基板处理系统中，用于开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口，该阀体的特征在于，包括能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。技术方案2记载的阀体，其特征在于在技术方案I记载的阀体的基础上，所述覆盖部件通过安装部件安装到所述主体。技术方案3记载的阀体，其特征在于在技术方案I记载的阀体的基础上，所述覆盖部件包括板状部件。技术方案4记载的阀体，其特征在于在技术方案3记载的阀体的基础上，所述覆盖部件具有包围所述相对部件的框体，该框体构成为能够分割。技术方案5记载的阀体，其特征在于在技术方案4记载的阀体的基础上，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，所述框体的一部分被遮住而不能被看到。技术方案6记载的阀体，其特征在于在技术方案4或5记载的阀体的基础上，在沿着经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体的方向的截面中，所述框体和所述相对部件的间隙呈曲折结构。技术方案7记载的阀体，其特征在于在技术方案4或5记载的阀体的基础上，所述相对部件构成为能够分割。技术方案8记载的阀体，其特征在于在技术方案I至5的任意一项记载的阀体的基础上，所述连通口包括在壁部件开口的孔，该孔的侧面由保护部件覆盖。技术方案9记载的阀体，其特征在于在技术方案8记载的阀体的基础上，所述保护部件遮住覆盖部件的一部分。为了达到上述目的，技术方案10记载的闸阀具有阀体，所述阀体在包括对基 板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室的基板处理系统中，用于开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口，所述闸阀的特征在于所述阀体包括能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件,所述相对部件安装于该主体,并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。技术方案11记载的闸阀，其特征在于在技术方案10记载的闸阀的基础上，所述覆盖部件具有包围所述相对部件的框体，该框体构成为能够分割。技术方案12记载的闸阀，其特征在于在技术方案10或11记载的闸阀的基础上，在所述阀体关闭所述连通口时，通过所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，所述框体的一部分被挡住而不能视认。为了达到上述目的，技术方案13记载的基板处理系统，包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室，该基板处理系统的特征在于具有开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口的阀体，所述阀体包括能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整。专利技术效果按照本专利技术，在阀体关闭连通口时，通过连通口从处理室侧观察阀体时，在连通口内能够看到覆盖部件所具有的相对部件整体，因此，能够在由阀体关闭着连通口的状态下从处理室侧通过连通口拆下相对部件，而且，传递室的内部不会与外部连通。另外，相对部件隔着连通口与处理室相对，因此，在该处理室产生的沉积物主要附着在该相对部件上。其结果，只要拆下相对部件进行清洗，就能够实质上清洗阀体。即，在清洗阀体时传递室的内部不会与外部连通，能够无需实质上停止基板处理系统。附图说明图I是示意地表示本专利技术的实施方式的基板处理系统的结构的俯视图。图2是示意地表示本实施方式的阀体所适用的闸阀的结构的图，图2 (A)是放大截面图，图2 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。图3是示意地表示本实施方式的阀体的第一变形例的结构的图，图3 (A)是放大截面图，图3 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。图4是表示图3的阀体的截面形状的变形例的放大截面图。图5是表示图3的阀体中的中央部的变形例的主视图。图6是示意地表示本实施方式的阀体的第二变形例的结构的图，图6 (A)是放大截面图，图6 (B)是从处理室侧观察阀体时的主视图。图7是表示图6中的侧面罩部件的变形例的截面图，图7 (A)表示侧面罩部件的第一变形例，图7 (B)表示侧面罩部件的第二变形例。图8是示意地表示本实施方式的阀体的第三变形例的结构的截面图。图9是示意地表示现有闸阀的结构的截面图。具体实施例方式以下，参照附图说明本专利技术的实施方式。图I是示意地表示本专利技术的实施方式的基板处理系统的结构的俯视图。在图I中，基板处理系统10包括俯视呈五角形的传递室11、在该传递室11的周围放射状配置且分别通过闸阀12与传递室11连接的4个处理室13、通过闸阀14与传递室11连接的负载锁定室15和与负载锁定室15连接的加载器16。传递室11的内部被减压，且利用在其内部配置的输送臂(未图示)将基板S向各处理室13搬入。各处理室13的内部被减压，且对被搬入的基板S实施等离子体处理，例如干蚀刻处理。负载锁定室15的内部压力能够变更为真空或大气压，暂时保存由传递室11的输送臂或加载器16具有的输送臂本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阀体，其在包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室的基板处理系统中，用于开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口，该阀体的特征在于，包括：能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：本间彻，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：