【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及隔开两个腔室的阀体、闸阀和基板处理系统。
技术介绍
在基板处理系统中，包括内置有输送基板的臂的传递室、和配置在该传递室周围的多个处理室，在各处理室对基板实施规定的处理，例如等离子体处理。在传递室和处理室之间配置有隔开这些腔室的闸阀。图9是示意地表示现有闸阀的结构的截面图。在图9中，闸阀90配置在传递室和处理室之间，包括在两侧面设有开口 91a、91b 的阀箱92和配置在阀箱92的内部并通过杆(阀棒)94与致动器93连接的阀体95。该闸阀90，在隔开传递室和处理室时，通过致动器93和杆94使阀体95紧贴阀箱92的内壁面堵塞开口 91a，在连通传递室和处理室时，通过致动器93和杆94使阀体95从阀箱92的内壁面离开并被拉升到上方。在隔开传递室和处理室时，阀体95隔着开口 91a与处理室的内部相对，因此，在处理室中对基板实施会产生沉积物(7*° )的处理(以下称为“沉积物性处理”)时，有时会在阀体95的表面也附着沉积物。在闸阀90中，为了易于进行附着在阀体95表面的沉积物的除去作业，能够通过开放构成阀箱92下部的自由开闭的阀盖凸缘96而容易地拆下阀体95...
【技术保护点】
一种阀体，其在包括对基板实施规定处理的处理室和向该处理室输送所述基板的传递室的基板处理系统中，用于开放或关闭连通所述处理室和所述传递室的连通口，该阀体的特征在于，包括：能够移动的主体；和具有相对部件的覆盖部件，所述相对部件安装于该主体，并且能够从所述主体拆下，当所述阀体关闭所述连通口时，所述相对部件隔着所述连通口与所述处理室相对，当所述阀体关闭所述连通口时，经由所述连通口从所述处理室侧观察所述阀体时，在所述连通口内能够看到所述相对部件整体。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：本间彻，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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