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本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的光学系统，其包含至少一个反射镜装置(200)，该反射镜装置具有多个反射镜元件，这些元件可彼此独立地位移以改变由该反射镜装置反射的光的角度分布；以及偏阵影响光学装置(300、800、900)，该偏阵影响光学装...
该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。

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