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本发明提供了具有自对准硅化物的晶体管及其制造方法。所述具有自对准硅化物的晶体管,包括:一衬底;形成于所述衬底上的栅极结构;形成于所述栅极结构两侧的衬底内的源漏极区域;形成于所述源漏极区域上第一自对准金属硅化物层;形成于所述第一自对准金属硅化...该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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本发明提供了具有自对准硅化物的晶体管及其制造方法。所述具有自对准硅化物的晶体管,包括:一衬底;形成于所述衬底上的栅极结构;形成于所述栅极结构两侧的衬底内的源漏极区域;形成于所述源漏极区域上第一自对准金属硅化物层;形成于所述第一自对准金属硅化...