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一种沉积装置,包括:外炉管;位于外炉管内的内炉管,所述内炉管的底部固定于所述外炉管的底部,所述内炉管的顶部为开口,且所述内炉管的顶部与所述外炉管的顶部不接触;位于所述内炉管内底部的基座;固定于所述基座表面的若干重叠设置的晶舟;自所述外炉管外...该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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一种沉积装置,包括:外炉管;位于外炉管内的内炉管,所述内炉管的底部固定于所述外炉管的底部,所述内炉管的顶部为开口,且所述内炉管的顶部与所述外炉管的顶部不接触;位于所述内炉管内底部的基座;固定于所述基座表面的若干重叠设置的晶舟;自所述外炉管外...