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用于去除污染物粒子的系统、光刻设备、用于去除污染物粒子的方法以及用于制造器件的方法技术方案
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下载用于去除污染物粒子的系统、光刻设备、用于去除污染物粒子的方法以及用于制造器件的方法的技术资料
文档序号:8303967
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本发明提供了一种用于从EUV辐射束的路径去除污染物粒子的系统,其中提供至少第一AC电压至位于EUV辐射束的路径的相对侧上的一对电极作为电压机制的第一阶段,和提供DC电压至电极作为电压机制的第二阶段。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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