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本发明公开了一种在锆晶体表面镀锆铜非晶合金薄膜的方法，是将经过精细抛光、清洗烘干的锆工件置于磁控溅射镀膜机中，预抽真空至优于5×10-4Pa，通入高纯氩气，调节真空度至0.35Pa，开启装有锆铜合金靶、或者高纯锆靶、铜靶的溅射源，调节功率至...
该专利属于南京航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京航空航天大学授权不得商用。

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