下载一种基于MOS电容的等离子体损伤测试结构的技术资料

文档序号:8241985

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一种应用于测量等离子体损伤的带有金属天线结构的MOS电容,包括电极天线、绝缘材料、通孔、多晶硅、栅极和硅衬底。该结构的特性在于一个插指状和方块形状的天线均通过通孔与MOS电容的多晶硅电极相连,可以用来收集轰击到天线上的电子和离子。可以通过测...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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