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本发明提出了腔室装置及具有该腔室装置的等离子体处理设备。腔室装置包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有腔室；第一和第二射频电极板，所述第一和第二射频电极板分别设在所述腔室本体的第一和第二侧且暴露到所述腔室内，所述第一和第二射频电极板分别与所述...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。