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本发明提供成膜装置及基板处理装置。成膜装置包括：多个处理区域，在旋转台的旋转方向上相互分开地设置；多个反应气体供给部件，向多个处理区域分别供给种类互不相同的反应气体；分离区域，在旋转方向上位于处理区域之间，将多个处理区域的气氛气体相互分离，...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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