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本发明涉及分离膜、其制造方法及包括其的水处理装置。分离膜可包括支撑层和聚合物基质层。所述支撑层可包括包含由化学式1表示的结构单元的聚合物，且所述聚合物基质层是半渗透膜并具有比所述支撑层高的对于待分离的目标材料的排除率。化学式1可如在具体实施...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

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