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本实用新型公开了一种陶瓷基片双面光刻结构，该双面光刻结构包括一支撑框架，支撑框架的上端设有上掩模板，支撑框架的下端设有下掩模板，上掩模板的上方及下掩模板的下方各设有一曝光装置，上掩模板、下掩模板之间设有一陶瓷基片支撑架，陶瓷基片支撑架上设有...
该专利属于刘毅楠所有，仅供学习研究参考，未经过刘毅楠授权不得商用。

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