专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
英特尔公司
>
具有高k栅电介质和金属栅电极的半导体器件制造技术
>技术资料下载
下载具有高k栅电介质和金属栅电极的半导体器件的技术资料
文档序号:8191812
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明的名称是“具有高k栅电介质和金属栅电极的半导体器件”。描述了一种半导体器件,其包括栅电介质和包含铝化物的金属栅电极。...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。