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本发明公开了一种半导体器件，所述半导体器件包括：每个被配置成包括沟道对的存储块，每个所述沟道包括形成在所述存储块的管道栅中的管道沟道，以及与所述管道沟道相耦接的漏侧沟道和源侧沟道；第一缝隙，所述第一缝隙位于与其它的存储块相邻的存储块之间；以...
该专利属于爱思开海力士有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过爱思开海力士有限公司授权不得商用。

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