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本发明涉及一种金属硬光罩结构的缺陷解决方案，尤其涉及一种对40/45纳米工艺金属硬光罩结构的缺陷解决方案。本发明一种对40/45纳米工艺金属硬光罩结构的缺陷解决方案通过在复合结构刻蚀后增加水蒸气步骤，去除因刻蚀而在复合结构表面残留的电荷，解...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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