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本发明涉及一种量测晶圆检测机台稳定性和精确性的监控方法，尤其涉及一种光刻晶圆洗边和边胶去除量测稳定性的监控方法。本发明一种光刻晶圆洗边和边胶去除量测稳定性的监控方法利用标准片上若干同一位置在按规定标注所得的刻度值与经检测机台测量所得的刻度值...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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