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本发明公开了纳米光刻技术领域中的一种纳米光刻方法及装置。本发明设备包括飞秒激光器、透光基板、光刻掩膜版、光刻胶和基底。本发明利用飞秒激光器在光刻掩膜版上形成特定的超衍射极限的图形，并且通过调控光刻掩膜版材料、改变光刻掩膜版上表面等离子激元激...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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