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本实用新型提供一种半导体器件，包括：半导体衬底，其上依次形成有高k介质层和图形化的栅极；侧墙，其形成于所述栅极周围，其中，所述高k介质层具有被氮化的部分，其位于所述半导体衬底上未被所述栅极覆盖的区域，其中所述氮化的高k介质层还存在于所述半导...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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