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本发明公开了一种等离子体处理装置。等离子体处理装置（1）包括：反应室（100）；上部电极（200），配置在反应室（100）的内部，被施加电源以产生等离子体；多个调节部（400），与上部电极（200）连接，用于调节上部电极（200）的形状；以...
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