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等离子体处理装置制造方法及图纸
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下载等离子体处理装置的技术资料
文档序号:8165852
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本发明公开一种等离子体处理装置。本发明的一实施例的等离子体处理装置(1)包括:反应室单元(100),具有相互独立配置的第一室(110)和第二室(120),将基板投入该反应室单元进行等离子体处理;以及等离子体电极单元(120),具有弯折的形态...
该专利属于泰拉半导体株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过泰拉半导体株式会社授权不得商用。
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