下载等离子体处理装置的技术资料

文档序号:8165852

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开一种等离子体处理装置。本发明的一实施例的等离子体处理装置(1)包括:反应室单元(100),具有相互独立配置的第一室(110)和第二室(120),将基板投入该反应室单元进行等离子体处理;以及等离子体电极单元(120),具有弯折的形态...
该专利属于泰拉半导体株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过泰拉半导体株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。