专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
上海华力微电子有限公司
>
基于埋层N型阱的异质结1T-DRAM结构及其制备方法技术
>技术资料下载
下载基于埋层N型阱的异质结1T-DRAM结构及其制备方法的技术资料
文档序号:8162649
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供了一种基于埋层N型阱的异质结1T-DRAM结构及其制备方法,有效增大了体区与埋层N型阱之间、体区与源区之间的孔穴势垒,从而有效增大1T-DRAM单元的体电势的变化范围,进而有效增大其阈值电压的变化范围,使得读出的信号电流变大,即增...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。