温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种铁氧体基底薄膜电路的高效率光刻制作方法，步骤如下：(1)根据预期制备的器件需要选择合适的铁氧体基底材料，并对基底进行金属化、清洗、干燥；(2)将清洗干净的镀有金属膜层的铁氧体基底多次反复涂胶烘焙，使得铁氧体基片上得到一层均匀、致密、对底...
该专利属于中国电子科技集团公司第九研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国电子科技集团公司第九研究所授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。