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本发明提供一种能够在使用堆积性气体的等离子处理中，抑制被处理体的处理枚数的增加所产生的异物的等离子处理方法。本发明提供一种等离子处理方法，从被导入到处理室内的堆积性气体生成等离子体，通过使载置于该处理室内所设置的试料台上的被处理体以施加了高...
该专利属于株式会社日立高新技术所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社日立高新技术授权不得商用。

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