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本发明提供了一种提高对位标记清晰度的方法，所述方法包括：在晶圆表面刻蚀对位标记；在所述晶圆上进行外延层的生长；去除对位标记上方生长的外延层，使得晶圆表面的对位标记露出。该方法通过在外延层生长之后增加一次光刻和刻蚀，将底层有对位标记的外延部分...
该专利属于无锡华润上华科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡华润上华科技有限公司授权不得商用。

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