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本发明实施例提供一种纳米工艺金属层版图的优化设计方法，包括：对标准单元金属层版图完成物理设计后，对所述金属层版图的金属线布局及走线进行调整；优化所述金属层版图的输入端金属线的线宽及间距；优化所述金属层版图的输出端金属线的线宽及间距；优化所述...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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