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本实用新型提供了一种等离子体刻蚀设备，包括：腔体，腔体内限定有反应腔，腔体的底部的周边具有与反应腔连通的多个抽气孔；用于向所述反应腔提供反应气体的供气系统，所述供气系统包括气体扩散件，所述气体扩散件的底面相对于其中心轴线呈倾斜角度，且所述倾...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。