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本发明提供一种基片处理设备，其包括基片处理腔室和设置于基片处理腔室内的多层托盘，在基片处理腔室的外部设置有用于对多层托盘进行感应加热的感应加热线圈，其中，感应加热线圈包括主加热绕组和连接在主加热绕组两端的辅助加热绕组，主加热绕组的直径大于辅...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。