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一种隔离区、半导体器件制造技术
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下载一种隔离区、半导体器件的技术资料
文档序号:8069366
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一种隔离区(142),所述隔离区(142)包括嵌于半导体基底(100)中的第一凹槽和填充所述第一凹槽的绝缘层,所述第一凹槽包括第一侧壁(122)、底壁和由所述底壁延伸并接于所述第一侧壁(122)的第二侧壁(124),所述第一侧壁(122)与...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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