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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:8049390
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公开了一种半导体器件(1),其具有半导体层(21-25)和衬底(2)。半导体层(21-25)由碳化硅制成,并且包括电流路径的至少一部分。衬底(2)具有用于支承半导体层(21-25)的第一表面(2A)和面对第一表面(2A)的第二表面(2B)。...
该专利属于住友电气工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过住友电气工业株式会社授权不得商用。
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