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本发明提出一种反应腔装置，包括：腔室本体，腔室本体内限定有反应腔室；多个托盘，多个托盘设置在反应腔室之中且可绕中心轴转动；和整流片，所述多个托盘之间间隔设置所述整流片，且整流片位置固定不动。本发明还提出一种基片处理设备。通过本发明实施例提出...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。