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本实用新型公开了一种多炬等离子体喷射CVD法沉积超硬膜的装置，该装置包括炬电源、引弧电源、反应气体供给系统、抽气系统、冷却水系统、真空反应室、多个等离子体炬和设于各等离子体炬正下方的各水冷基底支撑台；各等离子体炬分别固定在真空反应室上部盖板...
该专利属于南京航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京航空航天大学授权不得商用。

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