下载腔室装置和具有它的基片处理设备的技术资料

文档序号:7893999

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本发明提供了一种腔室装置,包括:腔室本体,所述腔室本体内限定有腔室;和第一热电冷却部件,所述第一热电冷却部件的冷端邻近所述腔室本体的至少一部分外表面而设置以冷却所述腔室本体,且所述第一热电冷却部件的热端远离所述腔室本体的至少一部分外表面而设...
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