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本发明提供一种能够在抑制对基板的有效区域的负面影响的状态下，良好地清洗基板的周边部的不要部位的技术。将在蚀刻工序中暴露而导致表面侧斜面部生成有针状突起群T，并且在背面侧的斜面部附着有复合化合物P的晶圆W放置于真空室内的旋转台。在真空室内，在...
该专利属于东京毅力科创株式会社;岩谷产业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社;岩谷产业株式会社授权不得商用。

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