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一种用强超声波清洁一个或多个基片同时又能减少了声能对一个或多个基片的破坏的方法和系统。基片可支撑在操作室中，并且与清洁溶液相接触，该清洁溶液包括有二氧化碳溶解在其中的清洁液，二氧化碳溶解在清洁液中的量应使二氧化碳气体在操作室内的环境下处于过...
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