用过饱和清洁溶液进行强超声波清洁制造技术

一种用强超声波清洁一个或多个基片同时又能减少了声能对一个或多个基片的破坏的方法和系统。基片可支撑在操作室中，并且与清洁溶液相接触，该清洁溶液包括有二氧化碳溶解在其中的清洁液，二氧化碳溶解在清洁液中的量应使二氧化碳气体在操作室内的环境下处于过饱和状态。然后将强超声波能传输到基片上。清洁溶液保护基片不被声能所破坏。另一方面，本发明专利技术提供了一种实施本方法的系统。本发明专利技术不限于二氧化碳，也可以与任何其它的气体结合使用，只要这种气体能够溶解在清洁液中，用来保护基片，使其不会因为施加强超声波／声能而被破坏。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种清洁至少一块基片的方法，它包括：（ａ）将基片放置在一具有气态环境的操作室中，该气态环境具有第一温度和第一气体的第一分压；（ｂ）将一溶液供入所述操作室中，以使溶液与基片接触，所述溶液包含清洁液和以在所述第一温度和第一分压下过饱和的浓度溶解在所述清洁液中的第一气体；（ｃ）在所述基片与溶液接触的同时，将声能施加在基片上以清洁基片。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：CS弗兰克林，Y吴，B弗雷泽，
申请(专利权)人：艾奎昂技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]