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本发明公开了一种VDMOS器件及其制作方法，VDMOS器件包括：第一导电类型衬底，在其背面设置有漏极；第一导电类型漂移区，设置在第一导电类型衬底上；第二导电类型阱区，其在第一导电类型漂移区的表面区域选择性的形成，与第一导电类型漂移区的导电类...
该专利属于比亚迪股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过比亚迪股份有限公司授权不得商用。

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