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本发明关于一种线宽测试结构，其包括当前层及位于当前层下方的前层，前层形成有台阶，其中当前层的光刻图形设计成其中心位于前层的台阶处。本发明利用线宽测试结构的二次电子成像原理，测试线宽的同时测试套刻叠对偏差。...
该专利属于无锡华润上华科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡华润上华科技有限公司授权不得商用。

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