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本发明公开了一种腔室组件，包括：腔室主体，所述腔室主体内限定有处理腔室；屏蔽部件，所述屏蔽部件设置在所述处理腔室内；和屏蔽冷却单元，所述屏蔽冷却单元至少设置在所述腔室主体的一端且与所述屏蔽部件接触，用于冷却所述屏蔽部件。根据本发明的腔室组件...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。