温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了一种湿法刻蚀清洗设备。根据本发明的湿法刻蚀清洗设备包括去离子水管和用于布置晶片的水槽，每个去离子水管上均布置了多个排水孔，其中所述去离子水管用于利用排水孔向水槽中的晶片喷射去离子水。每个去离子水管上布置了3排水孔，其中第一排孔用...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。