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本发明涉及一种包括可旋转污染物陷阱的设备和方法，其配置在辐射束的路径上以捕获从构造用于产生所述辐射束的辐射源发射的污染物。污染物陷阱设备包括：具有多个限定通道的通道形成元件的转子，所述通道形成元件配置成基本上平行于所述辐射束的传播方向，所述...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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