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等离子体处理装置及等离子体处理方法制造方法及图纸
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文档序号:7158048
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等离子体处理装置(11)具备向处理容器(12)内供给等离子体处理用的反应气体的反应气体供给部(13)。反应气体供给部(13)包括:第一反应气体供给部(61),其被设于电介质板(16)的中央部,朝向保持于保持台(14)上的被处理基板(W)的中...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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