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散射仪和光刻设备制造技术
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文档序号:7156693
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本发明提供一种用于测量衬底的性质的散射仪,包括焦距感测布置,其包括引导第一辐射束到聚焦布置上的布置(65),以通过聚焦传感器布置(61)检测。聚焦控制器(67)提供表示聚焦布置(15、69)和衬底(W)的相对位置的控制信号,其中需要所述相对...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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