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文档序号:7146148

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本发明提供一种半导体装置,其具备:基底层(20);以及发光层(30),其形成于基底层(20)上,并交替地层叠有由InAlGaN形成的势垒层和由InGaN形成的量子阱层。...
该专利属于株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东芝授权不得商用。

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